200纳米分辨率X光探测器问世

 新闻资讯     |      2021-08-03 01:41
本文摘要:据科技日报报导,日本高亮度光科学研究中心(JASRI)、理化学研究所及神岛化学工业公司构成的研究小组,顺利研发出能辨别200纳米结构的高分辨率X光光学探测器。这款X光探测器享有全球最低的分辨率,能取得前所未有的高细致X光图像。研究小组利用X光切换为红外线,研发了无黏合层的5微米薄半透明薄膜闪光体,大幅提高了光学特性,构建了相似X光光学理论无限大的200纳米分辨率。 利用该探测器,研究小组顺利摄制了超大规模集成电路(VLSI)器件内部300纳米长的布线。

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据科技日报报导,日本高亮度光科学研究中心(JASRI)、理化学研究所及神岛化学工业公司构成的研究小组,顺利研发出能辨别200纳米结构的高分辨率X光光学探测器。这款X光探测器享有全球最低的分辨率,能取得前所未有的高细致X光图像。研究小组利用X光切换为红外线,研发了无黏合层的5微米薄半透明薄膜闪光体,大幅提高了光学特性,构建了相似X光光学理论无限大的200纳米分辨率。

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利用该探测器,研究小组顺利摄制了超大规模集成电路(VLSI)器件内部300纳米长的布线。这是全球首次以简单水平画质可用摄制出有VLSI内部的识布线。


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